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納米顆粒粒徑檢測(cè)的相關(guān)知識(shí)介紹

 更新時(shí)間:2022-02-28 點(diǎn)擊量:1477
   納米顆粒粒徑檢測(cè),必須對(duì)多個(gè)參數(shù)進(jìn)行表征才能很好地了解它們的特性和行為。除了納米顆粒粒徑外,粒徑分布也很相關(guān)。粒徑分布可以揭示諸如溶液中存在聚集體的狀況,這反過來可能表明納米顆粒的分散性較差。
 
  納米顆粒粒徑檢測(cè)是指在三維空間中至少有一維處于納米尺寸(1-100nm)或由它們作為基本單元構(gòu)成的材料。由于它的尺寸很小,會(huì)產(chǎn)生很多特殊的效應(yīng),比如小尺寸效應(yīng)、隧道效應(yīng)以及大的比表面積效應(yīng)等,因此使得納米材料表現(xiàn)出不同的物理化學(xué)特性,例如熔點(diǎn)、磁性、光學(xué)、導(dǎo)熱、導(dǎo)電特性等等,因而現(xiàn)在納米材料被廣泛應(yīng)用于醫(yī)藥、化工、冶金、電子、機(jī)械、輕工、建筑及環(huán)保等行業(yè)。
 
  為了實(shí)現(xiàn)掃描電子顯微鏡(SEM)對(duì)納米顆粒粒徑檢測(cè)的準(zhǔn)確測(cè)量,研究了一種SEM放大倍數(shù)校準(zhǔn)和光柵間距測(cè)量的方法;在SEM的不同放大倍數(shù)下對(duì)光柵納米結(jié)構(gòu)樣板成像,運(yùn)用軟件對(duì)顯微鏡圖像進(jìn)行灰度處理并讀取灰度圖像的亮度值數(shù)據(jù),通過確定頂線、基線、底線位置,有效消除成像質(zhì)量及數(shù)據(jù)處理等的誤差,準(zhǔn)確確定質(zhì)心橫坐標(biāo),采用質(zhì)心算法求取平均光柵間距,通過與光柵間距標(biāo)稱值比較計(jì)算校準(zhǔn)系數(shù)和校準(zhǔn)誤差;為驗(yàn)證放大倍率校準(zhǔn)結(jié)果的可靠性,對(duì)納米顆粒粒度標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)進(jìn)行測(cè)量。實(shí)際測(cè)量的平均粒徑與標(biāo)準(zhǔn)值一致,表明該校準(zhǔn)方法準(zhǔn)確可靠,可有效避免圖像質(zhì)量和人為因素對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響,達(dá)到對(duì)納米和亞微米顆粒粒徑準(zhǔn)確測(cè)量的目的。
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